Les 8 et 9 avril 2026, ORIAME® participera au salon Solutions Ressources Humaines & Innovative Learning à Paris Porte de Versailles.
À cette occasion, nous présenterons notre vision d’une IA utile, responsable et profondément humaine, appliquée à la formation, au développement des compétences et à la transformation des organisations.
Notre singularité repose sur une approche qui conjugue expertise stratégique, expérience managériale, compréhension opérationnelle et maîtrise technique.
Nous ne concevons pas des dispositifs hors-sol, mais des solutions ancrées dans les réalités du terrain, pensées pour être utiles, pertinentes et durables.
Sur le salon, nous mettrons en avant :
– notre catalogue de formations, pour acculturer, faire monter en compétence et structurer l’adoption de l’IA ;
– notre méthodologie unique et protégée, conçue pour bâtir des trajectoires ambitieuses, pragmatiques et durables ;
– notre offre de services, du diagnostic au déploiement, en passant par la priorisation des usages et la conduite du changement ;
– nos agents pédagogiques simulateurs, qui permettent d’entraîner les équipes dans des situations réalistes et de soutenir une progression concrète dans la durée ;
– notre dispositif de certification d’ambassadeurs, pour aider des relais internes ou partenaires à porter la méthodologie ORIAME® avec l’appui de notre boîte à outils.
Nos agents simulateurs pédagogiques ouvrent une nouvelle manière de former, entraîner et ancrer les compétences dans la durée.
Ils permettent de recréer des mises en situation réalistes, d’adapter les interactions, de travailler les postures et de rendre l’apprentissage plus vivant, plus engageant et plus efficace.
Formations ponctuelles, séminaires, team buildings, événements d’entreprise, academies internes : ces dispositifs s’adaptent à de nombreux contextes.
Venez découvrir comment ORIAME® peut vous aider à concevoir des dispositifs de formation et de transformation plus utiles, plus engageants et plus durables.
Nous serons heureux d’échanger avec vous sur notre stand.